氦質(zhì)譜儀的一項(xiàng)新發(fā)展是出現(xiàn)了回流檢漏儀，如圖13-33所示。該儀器的優(yōu)勢(shì)在于，由于其質(zhì)譜儀室位于高真空側(cè)，并且測(cè)試件連接到前部位置，因此可以在較低真空下檢測(cè)到測(cè)試件并減少了測(cè)試件的數(shù)量。質(zhì)譜儀室的污染對(duì)儀器的污染。該儀器基于以下原理：油擴(kuò)散泵的各個(gè)噴嘴的噴嘴壓力比與氣體質(zhì)量有關(guān)。擴(kuò)散泵各級(jí)噴嘴的壓力比（即壓縮比）可以表示為：從上式可知，氣體量越小，壓力比越小。多級(jí)擴(kuò)散泵的壓力比可以達(dá)到：氦氣為102，空氣中其他氣體成分為10 ^ 4?10 ^ 6。當(dāng)質(zhì)譜儀管連接到泵的總管上，并且試件連接到泵的前級(jí)管時(shí)，氦氣通過泄漏進(jìn)入前級(jí)管后，仍有一些氦氣仍流回到質(zhì)譜儀管中，泄漏信號(hào)。該檢漏儀的靈敏度估計(jì)達(dá)到10 ^ -5Pa.L / s?10 ^ -8Pamiddot，L / s。